UTILIZAÇÃO DOS FEIXES DE ÍONS FOCALIZADOS DE GÁLIO E HÉLIO PARA DESENHOS LITOGRÁFICOS DE PADRÕES METROLÓGICOS EM AMOSTRA DE SILÍCIO

por: Matheus Costa Ximenes, Jose Brant de Campos

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Ano: 2019

Instituições de ensino: Universidade do Estado do Rio de Janeiro, Universidade do Estado do Rio de Janeiro

Idioma: Portugues

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Resumo

Este trabalho relata nanopadronagens com matrizes quadradas periódicas desenhadas por feixe de íons focalizados de Gálio e Hélio em amostra de Silício, posteriormente analisados em microscópio de feixe de elétrons. Esse procedimento pode ser usado como uma ferramenta metrológica para comparar diferentes tipos de fontes de feixes de íons e diferentes equipamentos, contribuindo para o desenvolvimento da microscopia iônica e eletrônica em geral, gerando assim uma maior precisão para a análise de nanoestruturas. Para fazer isso, utilizou-se a capacidade de pulverização catódica de um microscópio de feixe de íons de feixe triplo para desenhar inicialmente um padrão de quadrados periódicos com o feixe de gálio e em seguida um padrão intersticial ao padrão anterior com o feixe de hélio. Esses defeitos foram analisados por meio de microscopia eletrônica de varredura de alta resolução. A relação entre a metrologia, a nanopadronagem e a nanofabricação é discutida sob o ponto de vista da sua importância e da inter-relação entre os temas para o desenvolvimento de produtos envolvendo a nanotecnologia.


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